Alcuni ricercatori cinesi dell’Istituto di Nano-tecnologia e Nano-bionica di Suzhou e il Centro nazionale per le nanoscienze e la tecnologia hanno fatto una scoperta importante. Hanno di fatto teorizzato un nuovo sistema di litografia laser ad altissima precisione per la produzione di processori. La tecnologia sarebbe ancora più efficace dell’attuale EUV.
Andando con ordine, la tecnologia laser in questione serve per incidere sui wafer dei chip la tacca dove andrebbe bessi i transistor. Più l’incisione è fatta con precisione più allora ci possono essere transistor con una minore occupazione di spazio. Tradotto significa più potenza in meno spazio.
La nuova tecnologia sarebbe in grado di andare oltre ai nodi da 5 nm, ma c’è da dire che per ora si tratta di sola teoria, deve ancora essere messa in pratica. Se ci fosse un successo in tal senso, la Cina non solo guadagnerebbe spazio, ma supererebbe tutti i concorrenti
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La Cina, allo stato attuale, è rimasta indietro su questo tipo di tecnologia tanto che i colossi come Huawei si basano su compagnie estere come TSMC di Taiwan. Quest’ultima riesce a produrre chip con un nodo di 5nm mentre la più grande fondere cinese, la SMIC, è rimasta a produrre a 14 nm.
Ora che gli Stati Uniti hanno sferrato un attacco pesante alla Cina che la sta tagliando fuori dal mercato di questi prodotti, avere una tecnologia proprietaria del genere potrebbe ribaltare le sorti della guerra commerciale. C’è da dire che per vedere all’atto pratico questa innovazione potrebbe volerci del tempo, si parla di diversi anni.