Un istituto russo sta sviluppando un proprio scanner litografico in grado di produrre chip a 7nm. La macchina è in fase di sviluppo, e sarà pronta entro il 2028. Quando sarà disponibile, dovrebbe essere più efficiente dello strumento Twinscan NXT:2000i di ASML, il cui sviluppo ha richiesto oltre un decennio.
Dopo che la Russia ha scatenato la sua sanguinosa guerra contro l’Ucraina il 24 febbraio, Taiwan si è affrettata a vietare le spedizioni di chip avanzati alla nazione. Gli Stati Uniti, il Regno Unito e l’UE hanno successivamente imposto sanzioni che vietano praticamente a tutti i produttori di chip a contratto di lavorare con entità russe.
Inoltre, aziende come Arm non possono concedere in licenza le proprie tecnologie a progettisti di chip con sede in Russia. Di conseguenza, il governo russo ha lanciato un programma nazionale per sviluppare chip a 28 nm entro il 2030, per questo dovrà decodificare quanti più chip stranieri possibili ed educare i talenti locali a lavorare su chip domestici.
Attualmente la fabbrica più avanzata della Russia può produrre chip utilizzando una tecnologia di fabbricazione a 65 nm. Nel frattempo, i produttori americani ed europei non possono fornire le loro apparecchiature alla Russia a causa delle sanzioni. In sostanza, ciò che ha impiegato decenni per lo sviluppo e l’iterazione di aziende come ASML e Applied
Materials deve essere realizzato in circa otto anni.Apparentemente, l’Istituto russo di fisica applicata dell’Accademia delle scienze russa intende superare tutte le aspettative e produrre uno scanner litografico a 7 nm entro il 2028, secondo i suoi piani pubblicati sul sito web di Nizhy Novgorod Strategy Development.
Un moderno scanner litografico è un apparato altamente complesso che coinvolge una sorgente luminosa ad alte prestazioni, un’ottica sofisticata e una metrologia precisa, solo per citare alcune parti critiche. Tuttavia, in qualità di università di fisica applicata leader in Russia, IAP ritiene di poter sviluppare uno strumento del genere in un lasso di tempo relativamente breve.
Lo strumento sarà in qualche modo diverso dagli scanner prodotti da aziende come ASML o Nikon. Ad esempio, IAP prevede di utilizzare una sorgente luminosa >600 W (potenza totale, non potenza di messa a fuoco intermedia) con una lunghezza d’onda di esposizione di 11,3 nm (la lunghezza d’onda EUV è 13,5 nm), che richiederà un’ottica notevolmente più sofisticata di quella attuale.
Poiché la fonte di luce del dispositivo sarà di potenza relativamente bassa, renderà lo strumento più compatto e più facile da costruire. Tuttavia, significa anche che la sua produzione sarà notevolmente inferiore a quella dei moderni strumenti a ultravioletti profondi (DUV). Questo potrebbe non essere un problema, secondo IAP.